摘要本文简单地介绍了辉光放电光谱法( GD-()ES)的基本原理。分别对深度分析的定量方式、放电方式、应用领域和相关标准进行了详细地阐述。重点描述了商品化仪器中使用的SIMR深度分析定量方法。分别对三种放电方式(如直流、射频和脉冲)在深度分析中的特点进行了介绍。综述了GD-OES在金属镀层、复杂涂镀层、纳米级薄膜和样品制备领域的具体应用。最后,介绍了GD-()ES在深度分析方面的标准。
辉光放电光谱(Glow Discharge Optical Emis-sion Spectrometry,GD-OES)是一种基于惰性气体在低气压下的放电原理而发展起来的分析技术。自1978年出现了第一台商品化仪器以来‘1],在德国、法国和日本的金属生产和研究中心迅速普及开来。辉光放电光谱具有稳定性高、谱线锐、背景小、干扰少、能分层取样等优点。在辉光放电过程中,样品原子不断地被逐层剥离,随着溅射过程的进行,光谱信息所反映的化学组成由表及里,所以可以用于深度分析( Depth Profiling Analysis)。随着辉光放电光谱的发展,同时具有其他表面分析仪器(如XPS、AES、SIMS、XRF)所不具备的优越性能‘“ll,在