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新型酞菁的光致发光性质研究

徐庆华 | -> | 619| 0| 0.35204MB |激基缔合物峰,真空镀膜,浇铸膜

徐庆华 徐庆华 | 文档量 |浏览量16550

摘要 研究了2 ,32四2(22异丙基252甲基苯氧基) 氢酞菁在10 , 77 , 177 和300 K下石英衬底上的浇铸膜和单晶硅衬底上真空镀膜(约200 nm 厚) 在300 K下光致发光光谱。氢酞菁的浇铸膜光致发光光谱在上述温度下均出现荧光发射和磷光发射峰, 在177 和300 K下出现了1 673 nm 激基缔合物峰。该峰的出现与分子抗聚集能力的强弱有关, 在300 K激基缔合物峰比在177 K下的峰强, 从氢酞菁分子结构特点讨论了形成激基缔合物的原因。随着温度的升高, 可以观察到荧光发射峰渐渐减弱而激基缔合物峰变强。由于浇铸膜和真空镀膜的酞菁分子聚集态不同导致了斯托克司位移的差异, 真空镀膜的发光峰峰值在1 140 nm 左右, 与酞菁浇铸膜的峰值差别较大。浇铸膜的发光峰的半高宽为300 nm , 而真空镀膜发光峰的半高宽为100 nm 左右。
    在有机发光材料的研究中, 有机配合物引起了科学家对光致发光研究的兴趣[1-7 ] 。酞菁由于具有奇特的光电性能,多年来一直受到广泛的研究[8-16 ] 。近年来, 由于光电技术的发展, 在材料科学上人们又逐渐发现了它的许多潜在应用价值, 比如在非线性光学、液晶、LB 膜、光学存储介质、半导
体及光疗等许多方面都取得了较大的进展[17 ] 。酞菁周边具有16 个活化位置, 以及中心原子及其轴向配体的可调性, 近年来通过改变取代基的位置、数量和类型以及中心原子及其配体合成了大量该类新型化合物。
    本文以新型的2 , 3-四-(2-异丙基-5-甲基苯氧基) 酞菁[ (42thymol) H2 Pc ]在石英衬底上的浇铸膜于10 , 77 , 177 和300 K温度下的光致发光光谱及在单晶硅衬底上真空镀膜(约200 nm) 的常温光致发光光谱研究了其新型酞菁的光致发光性质。
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