氯铟酞菁光稳定性及光限幅循环特征研究

庞文清 | -> | 1279| 0| 0.234693MB |Z-扫描,UV-Vis吸收光谱,酞菁

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摘 要 借助氯铟酞菁( InPcCl) 溶液在激光轰击及日照过程中UV2Vis 吸收光谱的改变以研究其光稳定性,并采用开孔Z2扫描技术对其光限幅效应及其循环特性进行跟踪研究。结果表明, InPcCl 具有良好的光限幅循环特征和在激光轰击下的稳定性, 相反, 其在日光照射下的稳定性很差。提出了导致这种差异的原因。
    自1960 年激光问世以来, 已广泛应用于科研、工业、医疗及军事等诸多领域。激光在极大地推动社会进步的同时,也给操作现场的人眼及光电装置带来了潜在的威胁。由此激发了人们对激光防护材料的广泛研究兴趣, 其中尤以基于非线性光学效应的光限幅材料最为引人注目[1-3 ] 。
    金属酞菁配合物是一种具有16π电子的大环配合物, 因其骨架结构特征和可通过选择中心离子、轴向配体和在酞菁环上引入功能性取代基等方法进行分子筛选与组装, 得到具有特殊物理化学性质和光、电、催化等功能的材料, 而成为化学界和材料学界的研究热点[4-8 ] 。研究结果表明, 金属酞
菁配合物由于其激发态的反饱和吸收而呈现良好的光限幅效应, 同时, 可通过对其中心离子、周环和轴向取代等分子结构特征的调整实现对其光限幅效应的调控[9-12 ] 。然而, 对于酞菁在强激光轰击下的稳定性如何却缺乏相应的研究, 而这种稳定性将直接影响酞菁光限幅效应的再现性(即光限幅循环特征) , 并最终影响其实用化前景, 因此具有重要的现实意义。
    本文借助酞菁的UV2Vis 吸收光谱随激光轰击过程的改变来研究其光稳定性, 并采用开孔Z2扫描技术对其光限幅效应及其循环特性进行跟踪研究。我们选择氯铟酞菁( InPcCl)做为研究对象, 因为据文献报道它具有较好的光限幅性能[13 , 14 ] 。
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