表面活性剂修饰多孔硅的光致发光光谱

郭宗飞 | -> | 623| 1| 0.212693MB |多孔硅,表面活性剂,光致发光

郭宗飞 郭宗飞 | 文档量 |浏览量16438

摘 要 分别利用4 种不同的表面活性剂对多孔硅进行表面修饰, 结果表明油酸钠溶液、CPB 溶液和乳化剂OP 溶液修饰的多孔硅样品发光减弱, SDS 溶液修饰的多孔硅样品发光增强, 不同浓度的SDS 溶液的增强倍数也不同。这种现象不仅可以为研究多孔硅的发光机制提供新的依据, 还为提高多孔硅的发光效率提供了一个新的有效途径。
    1990 年Canham 报道了多孔硅( Porous Silicon, PS) 在室温下能较高效率地发射可见光[ 1] , 多孔硅引起了世界的关注, 因为硅是半导体工业中应用最广泛的一种材料, 但是它不能被制作为发光器件, 所以多孔硅室温下的可见光发射给光电子器件及光电集成带来了希望。人们已经从多孔硅的制备方法、微观结构、发光机制以及应用前景方面都进行了深入的研究, 但是目前要把多孔硅真正投入实际应用, 还存在着不少问题, 其中一个主要障碍就是发光效率依然偏低和发光不稳定。
    本文报道了一种新的后处理方法, 用表面活性剂溶液修饰多孔硅表面能够得到增强的光致发光谱( PL) , 一方面对研究多孔硅的微观结构和发光机制有理论意义; 另一方面, 表面活性剂较为廉价, 对改善多孔硅的发光性能和提高发光效率有实用价值。
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