岛津峰图背景扣除问题

仪器GC-2010plus 色谱柱Rtx-wax 做苯系物（苯、甲苯、二甲苯），用的二硫化碳里面有苯系物杂质，想用扣背景的方式将溶剂中的苯系物（苯、甲苯、二甲苯）去掉，但是扣背景文件会将文件中的所有峰（包括溶剂峰）去掉，峰型不好或者干脆...

仪器GC-2010plus 色谱柱Rtx-wax 做苯系物（苯、甲苯、二甲苯），用的二硫化碳里面有苯系物杂质，想用扣背景的方式将溶剂中的苯系物（苯、甲苯、二甲苯）去掉，但是扣背景文件会将文件中的所有峰（包括溶剂峰）去掉，峰型不好或者干脆出现倒峰，有什么办法能选择性地扣除背景文件中的制定峰吗？

补充内容(2015-4-28 10:41:20)：