UV_Vis_NIR反射光谱表征粉体材料的能隙值的方法
郭宗飞 | -> | 2304| 3| 0.338843MB |粉体材料,紫外-可见-近红外反射光谱;,隙值
由于固体能带结构是量子化的, 吸收光谱与入射电磁波量子的能量( h) 紧密相关。理论上, 当
入射光的h与能隙( Eg ) 相等时, 半导体吸收光谱( 吸收边) 展示出突变性的增加[ 2] 。这种现象起源于电子从价带到导带的跃迁[ 3] 。一般而言, Eg< 0. 5eV 时, 材料为导体; 0. 5eV< Eg< 2. 5eV 时为半导体; Eg> 2. 5eV 时为绝缘体。
过去, 常采用粉体压片法测定材料的能隙值。紫外-可见-近红外( UV-Vis-NIR) 反射光谱仪的测定范围一般在200—2500nm, 与太阳辐射的光谱范围相同, 是研究半导体的能隙值和能带结构的重要工具之一[ 4] 。通过对粉体材料反射率R∞ 的测定, 可以得到Kubelka-Munk 函数F= ( 1- R ∞) 2 / 2R∞。从实验可知, 若以F 为纵坐标, 以入射光的h为横坐标作图, 从曲线起峰位置可得出Eg 值[ 5] , 从而推断出半导体的能隙值。
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关键词: 高效液相色谱,催吐萝芙,利血平,光照 发表时间: 2012-02-12 11:19:36
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关键词: 光子晶体,传输矩阵法,透射谱 发表时间: 2012-02-12 11:18:37
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关键词: pH值,柠檬酸燃烧合成,锰酸镧 发表时间: 2012-02-12 11:13:08
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